Oxidace kyslíkem za zvýšeného tlaku a teploty, obecně nad kritickým bodem vody (22,1 MPa 374 °C), obvykle 25 - 35 MPa a 450 - 650 °C.
Voda v nadkritickém stavu mění významně své vlastnosti, chová se jako superhustý plyn. Je neomezeně mísitelná s kyslíkem, takže proces není omezen rozpustností kyslíku (vlastního oxidačního činidla), klesá rozpustnost anorganických solí, naopak vzrůstá rozpustnost nepolárních látek jako jsou uhlovodíky a organické látky obecně.
Dochází k oxidaci organických látek až na CO2 a H2O. Heteroatomy jako jsou halogeny, S nebo P se uvolňují ve formě halogenidů, síranů a fosforečnanů, respektive ve formě příslušných kyselin. Kovy jsou oxidovány do nejvyšších oxidačních stavů a transformovány na oxidy a soli. Organicky vázaný a amoniakální dusík se oxiduje převážně na N2.
Účinnost odstranění organických látek vyjádřených jako ChSK je běžně uváděna vyšší než 99 %. Doba zdržení vody v reaktoru je obvykle v rozpětí desítek sekund až několika minut.
ve vývoji
Reaktory jsou koncipovány jako průtočné. Reaktor musí být materiálově i uspořádáním přizpůsoben konkrétnímu vstupu.
Obecně podmínky procesu kladou extrémní nároky na konstrukci reaktoru, který musí dlouhodobě odolávat vysokým tlakům, teplotám a silně korozivnímu prostředí.
organické znečištění ve vysoké koncentraci a/nebo obtížně rozložitelné
jednotky až desítky g/l ChSK (v rozsahu cca 5-200 g/l)
Nízké koncentrace ChSK obvykle znamenají neekonomičnost procesu. Koncentrace ChSK by měla být vyšší než 5 000 mg/l.
Vysoké koncentrace solí (zejména chloridů) znamenají vysoké riziko koroze a zanášení reaktoru. Soli nemusí být přímo přítomné ve vstupu, mohou vznikat z heteroatomů v organických sloučeninách.
Limity pro další parametry závisí na konstrukci (materiálu) reaktoru.
Pro nerozpuštěné látky (vysrážené soli a další anorganický inert) lze dosáhnout koncentrace podle složení vstupu.
Podle některých zdrojů oxidy dusíku (NOX) a kyselina octová ve stopových množství.
ano
Nelze uvést přesný rozpočet.
Výše investičních nákladů silně závisí na vstupních podmínkách, především na:
a) objemu vstupních vod (kapalných odpadů);
b) složení vstupu.
Výroba reaktoru je mimořádně náročná z hlediska materiálů. Reaktor musí vydržet vysoké tlaky a teploty. Materiálové požadavky jsou významně ovlivněny také agresivitou prostředí. Vysoké koncentrace chloridů, ale i dalších solí způsobují za podmínek procesu silnou korozi. Např. vznikající kys. fosforečná působí za daných podmínek agresivně i vůči titanu.
V současné době (2020) nejsou k dispozici data z ČR.
Zahraniční zdroje uvádění nejčastěji náklady od 1 mil. EUR až do desítek mil. EUR.
Vzhledem k technologické náročnosti, nutnosti dodržovat patřičná bezpečnostní opatření nebo nezbytnému odvodu odpadního tepla nelze označit za kompaktní technologii.
vysoký tlak a teplota, korozivní kapalina
Požadavky na energie jsou spojeny především s ohřevem, čerpáním a kompresí kyslíku. Vždy je nutná kontrola teploty. V případě dostatečné koncentrace org. látek na vstupu (cca 3 - 4 % hm.) se proces stává autotermní a naopak je nutné teplo odvádět.
Technologie umožňuje vysokou míru automatizace, nicméně vyžaduje kvalifikovanou obsluhu (v podstatě jde o řízení chemického procesu).
Jsou spojené především s energiemi (čerpání, ohřev) a dodávkou kyslíku. V současné době (2020) nejsou k dispozici data z ČR.
Zahraniční zdroje uvádějí desítky až stovky EUR/t sušiny.
kyslík
průtok, tlak, teplota, pH
odplyn (především CO2, N2)
Anorganické kaly (vysrážené soli a oxidy)
Podle typu reaktoru separace nerozpuštěných látek
Vždy separace anorganických nerozpuštěných látek
Předehřátí
Někdy separace anorganických solí
odplynění
ochlazení
separace nerozpuštěných látek
Kabdasli, I. and O. Tunay (2010). Chemical Oxidation Applications for Industrial Wastewaters, IWA Publishing.
Tchobanoglous, G., et al. (2014). Wastewater engineering: treatment and resource recovery. New York, NY, McGraw-Hill Education.
Parsons, S. (2004). Advanced oxidation processes for water and wastewater treatment. London, IWA.
Rao, D. G. (2013). Wastewater treatment: advanced processes and technologies. London, IWA Publishing.